IC設計服務廠創意（3443）(3443-TW)持續發展先進製程，
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，與全球電子設計創新廠益華(Cadence Design Systems宣布，
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，創意在台積電16nm FinFET Plus(16FF+)製程上，
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，採用Cadence Encounter數位設計實現系統，
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，完成第一件高速運算ASIC的設計定案(tape-out)。
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對抗老化
，結合16FF+製程的效能優勢，
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，並採用Cadence數位解決方案，
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，可讓這個ASIC的操作時序提升18%、功耗減少28%，
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，在應用系統上更可達2倍效能。創意運用Encounter數位設計實現系統，
空間設計
，解決16FF+的設計實現挑戰，包括雙重曝光和FinFET設計規則檢查(DRC)、時序和電流變異性，以及處理量要求。，