國研院儀科中心結盟台積電（2330），
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，成立「原子層沉積鍍膜（ALD）聯合實驗室」，
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，將透過產學研的合作研發，
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，強化半導體前段製程本土設備競爭力，
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，為進軍20奈米以下製程技術，
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，備妥設備在地化的能量。
儀科中心昨（19）日以「深耕精儀、躍馬四十」為主軸，
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，舉行成立40周年的「儀科同樂會」活動。
儀科中心成立於1974年，
系統建置
，1976年成功研製「600倍顯微鏡」，至1984年「真空計」進行技術移轉，儀科中心除扮演科普教育的推手，更為我國高科技產業奠定發展基石。
如今，儀科中心整體的光機電能量由顯微鏡躍升到福爾摩沙衛星對地光學取像鏡頭模組，更進一步將太空光學技術商用化，運用於半導體晶圓製造產業。
儀科中心主任葉哲良表示，儀科中心致力於半導體前段設備製程的在地化，在曝光機的商用鏡片及模組開發，已經獲得晶圓大廠的採用。接下來，在真空鍍膜設備研發，也將透過與國際大廠的合作，推出自有腔體真空設備，目標是搶先本土化的半導體前段設備市場。，